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日经:美日企业主导第三代半导体专利

时间:2021-11-12  |   来源:欧普
 

根据《日本经济新闻》7日报导,第三代半导体碳化硅(SiC)的专利竞争激烈,相关专利数量最多的前五名都是来自美国、日本的大企业。 其中第一名是美国科锐(Cree),接下来是日本罗姆(Rohm)、住友电工、三菱电机和Denso。 图片来自:日本经济新闻 日本经济新闻报道称,根据从事专利分析的日本Patent Result所整理出的数据,在与第三代半导体碳化硅有关的专利方面,美国Cree所持有的专利数量最多,二到四名则全部被日本企业包办。 Patent Result的计算方式是基于2021年7月29日为止的美国已发行专利数量,再把数量及瞩目程度转换成分数来算出得分。 碳化硅可取代以往半导体材料的硅利光(Silicone),特别是在功率半导体等用途上,可提升性能、也有利节能。目前碳化硅已普遍使用在电动车和太阳光电系统的变频器上头,用途也愈来愈广。还有在脱碳潮流的发展之下,碳化硅的应用也备受瞩目。 按照Patent Result的分析,第一名Cree的强项是在碳化硅基板和磊晶领域,第二名和第五名的罗姆和Denso的专长是在电力损失的降低方面,第三名的住友电工擅长于碳化硅的结晶结构,第四名的三菱电机则在半导体装置的构造方面拥有强项。 免责声明:本文仅代表作者个人观点,与电源在线网无关。其原创性以及文中陈述文字和内容未经本站证实,对本文以及其中全部或者部分内容、文字的真实性、完整性、及时性本站不作任何保证或承诺,请读者仅作参考,并请自行核实相关内容。
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